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超純水制備采用反滲透技術(shù)+EDI超純水設備+拋光混床系統(tǒng)，其出水阻力可達18mΩ·cm(25℃)，具有長期不間斷運行、自動運行、操作簡單、水質(zhì)穩(wěn)定、無污染物、成本低等特點。...

超純水是指電阻率為18MΩ·cm(25℃)的水，除水分子外幾乎沒有雜質(zhì)，完全滿足芯片生產(chǎn)用水需求。...

萊特萊德經(jīng)常采用反滲透工藝，或反滲透后再采用EDI和拋光混床工藝生產(chǎn)超純水，出水電導率可達18.2MΩ，滿足芯片行業(yè)用水需求。...

電子晶圓行業(yè)超純水設備現(xiàn)階段正從晶圓的基本水平起，執(zhí)行維護晶圓純凈度的崗位職責，不斷平穩(wěn)地制取達到晶圓生產(chǎn)制造需用的超純水系統(tǒng)，產(chǎn)水量電導率可達18MΩ·CM(25℃)。...

萊特萊德EDI超純水設備產(chǎn)出超純水電阻率可達到18 MΩ*cm(25℃)，可完全應用于芯片制造業(yè)。未來，不僅僅是科技時代，更是環(huán)保綠色的時代。...

萊特萊德單晶硅超純水設備采用RO反滲透+EDI或混床拋光技術(shù)，可根據(jù)不同用戶的需要，為不同水質(zhì)、不同水量、不同水質(zhì)要求而定制設計的超純水設備，其水質(zhì)穩(wěn)定、操作簡單、運行成本低、綠色環(huán)保、易維護...